在纳米尺度上“剪纸”:全新光刻工艺极大减小曝光面积,突破多尺度图案化难题 | NSR
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近日,《国家科学评论》(National Science Review, NSR)在线发表了湖南大学段辉高教授课题组的研究成果,该团队提出并展示了一种新的抗蚀剂图案化方法“抗蚀剂纳米剪纸”:先在抗蚀剂上曝光出目标结构的轮廓,再把多余的抗蚀剂薄膜选择性地机械剥离。
“抗蚀剂纳米剪纸”的基本步骤
相对于传统电子束光刻过程,该方案具有以下核心优势:
- 可有效减少制造过程中的曝光面积(例如,加工半径为400微米的圆盘结构,相对传统电子束光刻方案该方案的曝光面积可减少5个数量级),极大提高加工效率,降低临近效应影响,实现传统方案难以实现的跨尺度“宏-微-纳”复杂功能性结构的高效制造。
- 一胶两用:只需在正性抗蚀剂PMMA中曝光出目标结构的轮廓,再通过选择性剥离与转印即可实现目标结构的“正胶”和“负胶”图案。
抗蚀剂剪纸策略用于跨尺度金属微纳复杂结构的高效加工。(a-d)(i-l)具有尖锐特征或极小间隙的多尺度金属微纳正型结构;(e-f)(m-p)通过lift-off获得的金属微纳反结构。All scale bars: 1 μm。
该策略扩展了现有光刻技术,并将在制造多尺度功能结构中发挥显著作用。
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关键词
材料
方案
纳米
表面
光刻技术
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