光刻为IC制造核心工艺，光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻机由三大核心系统，数万个零件组成，是产业链各环节顶尖公司通力合作的成果。
1)光源方面，DUV采用准分子激光器，技术掌握在Cymer和Gigaphoton手中，国内科益虹源打破垄断;EUV光源是通过高功率CO2激光器轰击Sn滴而来，高功率激光器为核心组件。
2) 光学系统是光刻机分辨率成像的保证，由照明系统和物镜系统构成，照明系统优化成像过程，实现分辨率增强，投影物镜系统将掩模图形聚焦成像，ZEISS为ASML关键光学元件独供商，国内技术水平仍有较大差距。
3)双工件台系统有效提高了光刻精度与效率，国内华卓精科和清华大学团队走在前列。
光刻工艺的重要性愈发凸显，市场规模快速增长，预计2024年有望达230亿美元，ASML在高端市场一枝独秀。2022年中国大陆光刻机进口约40亿美元，主要从日本、荷兰进口，出口管制下光刻机存在断供隐忧，自主可控势在必行。
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光刻机深度：筚路蓝缕，寻光刻星火（2023）
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