全文共7000字，主要分为五大部分，音频在文末。
（一）残酷的现实，光刻机售后断供
上一篇文章提到了媒体断章取义的事。断章取义，会导致信息的失真，甚至颠倒黑白，进而误导大众，影响大家的思维和判断，轻则闹笑话，重则引发争议甚至冲突。
上次举了个栗子，说你看下图会感到惊骇，结果忘了配插图，其实完整的牌子叫现杀老公鸡。这种断章取义的拍照方法，让江阴毛纺织厂很难堪。
在周星驰演的《鹿鼎记》中，被部分遮挡的招募处三个字，差点让韦爵爷变成韦公公。艺术上，故意的断章取义，可以增加笑果，但不良媒体故意这么做，却是为了颠倒黑白。
我们还提到了CNN、BBC等不良媒体是如何裁剪素材、断章取义的，也提到了拜登减免390亿美元学生贷款，国内一些不良媒体，故意隐去了对象是已还贷20~25年的贷款人。
最近，长江存储的董事长陈南翔在上海半导体展会上的发言，惨遭部分媒体掐头去尾、添油加醋、弯曲理解，用于唱衰中国的半导体产业。
比如下边某个号称传播正能量的自媒体，就选取了陈南翔一句：中国连买零件都成问题，设备几乎无法修复，仿佛变成了畸形摆设。
如果听（看）一下陈南翔完整的演讲，其实是非常理性务实、底气十足、令人振奋的，既有对美国破坏半导体市场的愤怒，也有对卡脖子技术强烈的危机感，更有打破封锁的强烈自信。
他那句话是真的，但主要是控诉美国，也是给阿斯麦尔（ASML）施压。他的意思是，你已经把这么贵的东西卖给我了，现在却不给我售后服务，设备不就没法运转了？
他讲出了长江存储可能的困境，但不是绝境。他给出了三个方案：要么允许第三方维护，要么允许我自己修，要么退货退款，我自己找替代设备。
大家可以试想，我们买任何商品，其中很重要的一项就是售后，保修是很重要的部分。在半导体领域内，更是如此，设备厂商甚至要派驻工程师。你不保修，那我要求退货总可以吧。
ASML是不可能退货的，永远不可能退货，因为实在是退不起。至少700多台光刻机，价值几百亿，要是真退货ASML瞬间破产，它一年净利润也就是三四百亿（人民币）。
陈总的讲话，也透露出了一个很重要的信息，其实第三方维修、甚至自己维修和翻新，技术上也是能做到的。中电45所和上海微电子就干过这个，但一般针对的是旧型号。
毕竟，专利也是有年限的，国际发明专利保护期是20年。过了保护期后，逆向工程也没问题。没过保护期的光刻机也可以自行维修，但需要ASML的授权。
这也说明陈总的讲话还有个言外之意，我们能修好，但由于还没到撕破脸的程度。真到了撕破脸时，用上了法律手段，技术壁垒也就不存在了，什么意思呢？
根据专利法有个基本的立法精神，那就是公开换取保护。这个公开包括技术细节公开，也包括市场公开（开放）。所以军事技术，一般不注册专利，因为需要公开。
你公开了技术细节，那么有人侵权了，专利局可以通过对比进行判断。如果一对比，对方的确侵权了，可以要求禁售对方的产品，也可以要求赔偿或罚款。
你有专利又不授权给人家，或者不卖产品给人家，显然违背了专利法的立法精神。那么这种情况下，专利局可以强行让你许可，甚至可以宣布专利无效。
我觉得ASML这个事情可能违反国际法了，不但不卖给你产品了，甚至已经卖给你的产品也不给你售后了，那么我们可以依法不尊重对方的知识产权了。
现在还没用这个手段，那是因为还没到撕破脸的程度，目前我们还可以买到ASML一部分产品。就在前几天，有合肥网友拍到，ASML的光刻机正运往二期厂房。
根据ASML第二季度的财报，ASML本季度对中国大陆的出货量在总量中占比达到24%，是所有地区中环比增幅最大的，也说明从公司层面，ASML也不想把事做绝。
虽然说囤货可以解燃眉之急，但归根结底还是要依赖我们自己。第一，法律斗争，国际法国内法能用的都用上；第二，技术手段反制裁，镓锗稀土等；第三加速搞国产替代。
前两个措施，可以最大程度拖住敌人，为国产光刻机争取时间。那么问题来了，光刻机为什么这么难呢？一言以蔽之，光刻机是人类工业皇冠上的明珠。
（二）光刻机格局，阿斯麦尔的崛起
说起人类的工业皇冠，这可是个大帽子，因为我发现这上边的珠子真特么多，只要是中国人暂时还没搞定的，都镶上去了。上一颗还是航空发动机，此前还有圆珠笔的钢珠。
先进的EUV光刻机攻克之后，中国工业最后一块大型短板就补上了（其他小短板可以忽略不计了），产业链更加健壮，这也意味着中国从科技上彻底崛起。
光刻机，原理上跟胶卷曝光有点像。胶卷平时不能见光，见了光，感光材料就发生化学反应。光刻机的原理接近于此，只不过曝光材料是光刻胶。光刻胶见光后，溶解性发生变化。
溶解性发生变化之后，再把整个板子放在溶液里浸泡，一部分被溶解掉，一部分留下，电路图就留在了硅片上，最后再经过刻蚀和去胶，台积电的工作就完成了。
再简单一点的比方，就是拿着一把刻刀，照着电路图在硅片上刻电路图。这把刻刀就是光。光刻下个印子后，在用化学手段去腐蚀固定。
如果是肉眼可见的尺度，我们甚至可以用手工制作，问题就在于甲方爸爸提的条件越来越苛刻，要求在同样尺寸的晶圆中，刻入越来越多、越来越复杂的电路。
（显微镜下的集成电路）
根据摩尔定律的描述，集成电路芯片上所集成的电路的数目，每隔18个月就翻一番。为了维持这个规律，集成电路的工程师，不断想办法改进工艺，对光刻机的要求越来越高。
有多高呢？比如清明上河图的宽度是约5米，假设张择端的笔锋宽度0. 5毫米，之间相差一万倍。头发丝的直径是0.14毫米，跟14纳米也相差一万倍 ；14纳米工艺，相当于说光刻机的刀锋是14纳米。
也就是对于14纳米工艺，无异于把清明上河图刻到头发丝上，就是这么残酷的现实。而台积电，已经可以在头发丝上，并排刻4~5幅细节拉满的清明上河图（3纳米工艺）。
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