2019年初，美国开始有意禁止中国企业。若只是如此，似乎影响也不会太大。毕竟，虽然美国掌握了很多半导体技术，但在半导体芯片领域，谁才是真正拥有话语权的人。主要是台湾、韩国和日本。台湾就不用多说了，台湾的台积电和联发科是龙头代工，一个是可以和高通抗衡的芯片设计巨头。
韩国有三星电子，拥有全流程芯片设计和制造能力。至于日本，日本曾经是半导体行业当之无愧的龙头老大。更受欢迎，但随着美国的打压，日本的半导体业务下滑，错过了最好的发展时机。

但即便如此瘦弱的骆驼比马大，日本在半导体芯片领域依然拥有话语权。以半导体光刻胶为例，日本垄断了全球87%的市场份额。在光刻机中，尼康和佳能的DUV光刻机也占有一定的市场份额。
不过，由于美国的要求，日韩两国都开始在半导体供应链上对中国企业进行限制，而日本的限制主要涉及光刻胶。众所周知，芯片制造工艺的核心就是光刻机，但是没有光刻胶，再先进的光刻机也没用，光刻胶就相当于相机的平台，通过光刻机在晶圆上成像，然后传送到刻蚀机进行刻蚀在电路芯片中。
因此，日本禁止光刻胶出口对我国的影响还是很大的，不过就在5月19日，据媒体消息，中国又完成了光刻胶领域的新项目。南大光电取得突破，成功开发出可用于90nm至28nm芯片生产的DUVArF光刻胶，该产品可满足进口产品的替代要求。
这个消息一出，估计日本是真的慌了，因为这意味着以后就算解除禁运，我国也不会再从日本购买光刻胶了，而且我国是全球第一大消费国。市场将对日本造成致命打击。

虽然目前的突破只是从90nm到28nm，但是对我国来说是整个芯片制造产业链的闭环突破，因为我国攻克的是28nm，而国产光刻机距离28nm只有一步之遥，所以28nm是我们国家伟大的现实。

对于更高精度的光刻胶，我们可以慢慢来。毕竟，我们需要的是匹配国内整个芯片产业链的发展步伐。同样，伴随着我国在光刻胶领域的成功，估计拜登也愣住了。毕竟才几年，限制也才几年而已。我国即将打通半导体制造全产业链。
面对我国在芯片领域的又一次成功，外媒也评论称，要抢占的是美国的技术制高点，而这一切还要等EUV光刻机的成功
其实就目前而言，我国在EUV光刻机的核心零部件上已经完成了突破，诸如EUV光源，现如今无论是清华大学、哈工大还是长春光机都有了自己的解决方案，双工作台方面也有了选择方向，但是在物镜方面却是比较困难的，毕竟所需要的物镜的品质现阶段似乎还要依赖蔡司这样的老牌巨头。
不过，万事开头难，没有什么东西是一蹴而就的，我们的突破速度已经很快了，接下来只需要去迎接EUV光刻机的问世就可以了，而在EUV光刻机发展的同时，周遭芯片产业链的相关技术的突破同样重要，因为只有产业链同步突破，届时我们才可以真正盘活整个国产高阶芯片产业链。
而这一天相信不会太远。
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