日本考虑跟从美国跟进限制对华出口,国产半导体材料或大受影响
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出品 | 科技智谷
而在掩模版(又称光罩、光掩膜等,是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具,是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体)上,国内半导体掩模版行业发展较为落后,除了中芯国际等代工厂会自制掩模版外,尚无商业掩模版公司可在IC领域掩模版实现较好的突破,仅部分公司在面板领域实现较好的技术和客户突破,而半导体领域极度依赖海外进口。
关键词
光刻胶
半导体材料
硅片
全球半导体
领域
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