作者:芯光犬
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俄罗斯下诺夫哥罗德策略发展机构发表声明,宣布下诺夫哥罗德应用物理研究所(IPF RAS)正在研发俄罗斯第一台半导体光刻设备,并且公布了一项大胆的计划:这套光刻机能够使用 7nm 生产芯片,预计在2028年正式投入生产。
俄罗斯下诺夫哥罗德策略发展机构的声明截图   图源:搜狐
据报道称,俄国计划在6年内做出工业样机,第一阶段在2024年首先研发出α机,并通过大量测试,保证其稳定性。
从第二阶段开始,2026年,α机应该被β机取代到那时,所有的系统都将被改善和优化,提高了解析度和生产率,核心工序都会在此过程中确定,未来这一过程将会完全自动化。
第三阶段将为光刻机带来更强的光源,改进的定位和进给系统,并使这种光刻系统快速准确地工作。
随着时间的推移,芯片的性能也会越来越好,计算效率也会越来越高。
圆光刻机
俄罗斯目前已经可以生产65nm制程的芯片,他们希望在2030年开发28nm制程,希望靠着对外国芯片进行逆向工程,并培养当地半导体人才,达到这一目标。
现在的俄罗斯,依然是世界上最强大的国家之一,虽然苏联的科技人才都被美国挖走了,但是俄罗斯的科技力量仍不容小觑!
美国的科研实力一直处于世界前列,俄罗斯的这一举动,很可能会威胁到美国在科技上遥遥领先的地位,让美国不得不忌惮。
俄罗斯科学院纳米结构研究所副所长表示,全球光刻机领导者ASML近20年来一直致力于EUV曝光机,目标是让世界顶尖半导体厂商保持极高的生产效率。
俄罗斯科学院   图源:必应
但是俄罗斯不必追随西方国家的步伐,他们只需要满足俄罗斯国内研发的需求就可以了。
目前看来,俄罗斯的2021年战略也明确指出,俄罗斯科技发展的目标是确保国家的技术独立性和竞争力,以实现国家发展目标和实施国家战略优先事项。
ASML公司的光刻机
一些业内人士认为俄罗斯的观点看起来很幼稚,想在6年内研发出可支持7nm芯片的光刻机无异于痴人说梦话,且并非单单靠光刻机就可生产出芯片,还需要许多支持设备,而俄罗斯并不能够生产这些设备。
事实上,半导体产业是一个全球化程度极高的产业,各个国家的厂商都参与其中,共同维护着供应链的稳定。
无论是欧美企业还是日本企业,跨国巨头们都早早在这方面有所积累。
从目前的技术上看,ASML的核心技术来自美国、德国、日本等国家,比如德国的镜片和美国的光源。
光刻机概念图
ASML公司生产的极紫外光刻机配件超过10万个,90%以上都是外包的,由全球各大顶尖企业生产,不是一个企业就能完成的,也不是一个国家能够完成的。
值得一提的是,下诺夫哥罗德代表团还向大家展示了未来光刻设备的演示样品。这套系统基于下诺夫哥罗德的IAP RAS开发、制造和安装。
虽然这还不是设备原型,而是“原型的原型”。不管如何,俄罗斯已经迈出了第一步。要知道在此之前,一台国外设备的售价就已经达到了上亿美元的天价,如果俄罗斯能够达成自己的光刻机目标,则这一次总算是不用再被“卡脖子”了。
不过,这还只是“未来的技术”,想要实现产业化,俄罗斯还有很长的一段路要走。
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