国产光刻机50年:星星之火,可以燎原?
1975年,王阳元主持研制成功国内第一块三种类型的1024位MOS动态随机存储器 。
01
曙光
1952年,战争硝烟刚刚散去,中国便开启了一项科技事业:成立电子计算机科研小组,由中科院数学所所长华罗庚负责。随后十余年,国内陆续试制成功第一只晶体三极管、第一只锗晶体管和第一代硅平面晶体管。
02
内忧
1987年,724厂与电子部第24所无锡分所合并,成立无锡微电子,即华晶电子前身。
03
外患
ASML最早成立时的简易平房,后面的玻璃大厦是飞利浦。
《瓦森纳协定》42个成员国
04
觉醒
05
破局
就在上海微电子成立时,国际光刻机技术取得了重大突破。此前,光刻光源已被卡在193nm无法进步长达20年。各国科学家和产业界一直在探讨解决方案。最终,2002年,台积电提出的浸入式193nm方案获得成功。
06
燎原?
相比阿斯麦背靠欧美先进研究成果,手持英特尔、三星和台积电等股权投资换来的巨额研发资金等,顶着《瓦森纳协定》的国产光刻机产业,成长基石明显处在低洼劣势。那么国产光刻机的星星之火,还能燎原吗?
07
前路
08
挑战
凡事预则立,不预则废。当前,国产前道光刻机产业的发展仍面临不少问题与挑战。首先,在组织方面,参与国内光刻机研发的有高校、企业和研究所,力量相对分散,产、学、研各界整体存在“各自为政”的情况。
EUV光刻机
2017年,在上海市科创争先锋先进事迹报告会上,贺荣明作为“科创先锋人物”发言。
09
尾声
浮沉五十载,国产光刻机大崛起到来前,道阻且长。如果梳理发展轨迹,它便类似一个“N”字形。其中前二十年,科研人员将20年的差距缩短到7年;中间十五年,将7年差距重新送回20年。而近十五年又在大力追赶。
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